Protótipo chinês de fonte de luz EUV é apresentado em Xangai; produção em massa ainda deve levar de três a cinco anos

Protótipo de fonte de luz é apresentado ao público

A startup de Xangai Langdao Suiyan apresentou um protótipo de fonte de luz ultravioleta extrema (EUV) na 26ª Feira Internacional da Indústria da China. Segundo a empresa, 90% dos componentes são fabricados na China, mas a produção em massa ainda deve levar de três a cinco anos. A exibição, descrita em reportagens datadas de outubro de 2026, trouxe ao público uma parte específica dos esforços chineses para desenvolver chips avançados: um equipamento projetado para gerar a luz usada na impressão de padrões minúsculos em circuitos.

O equipamento apresentado é uma fonte de luz EUV, um dos principais componentes de uma máquina de litografia. Uma máquina completa também precisa de óptica de precisão, uma plataforma que posiciona a lâmina de silício, um sistema de vácuo e controles que garantam o funcionamento integrado dessas partes. O cronograma da Langdao diz respeito ao desenvolvimento da fonte de luz. Segundo funcionários da empresa, aumentar a potência e garantir uma operação confiável por longos períodos são os principais desafios pela frente.

Representantes da empresa disseram que o protótipo poderia ser usado em testes de exposição de chips. As especificações atribuídas à companhia indicam potência de saída EUV acima de 15 watts e operação contínua por mais de 100 horas no sistema de baixa potência FlintNano. Não foram divulgados resultados de testes independentes nem dados detalhados de exposição do protótipo apresentado, portanto seu desempenho em testes práticos de fabricação de chips ainda é incerto.

O desenvolvimento é importante porque, devido a restrições de exportação, fabricantes chineses de chips não podem comprar máquinas de litografia EUV da holandesa ASML. Uma fonte de luz nacional poderia, futuramente, dar suporte a uma cadeia de fornecimento alternativa. Por enquanto, a apresentação em Xangai mostra uma empresa jovem trabalhando em um dos componentes mais exigentes do setor, com anos de engenharia ainda previstos em sua própria estimativa.

O que foi apresentado em Xangai?

O protótipo da Langdao ocupava um espaço modesto na área de exposições de Xangai, no pavilhão de tecnologia e inovação da feira. Seu exterior rudimentar chamou a atenção, enquanto funcionários recusaram entrevistas formais à imprensa. Outras descrições da apresentação registraram explicações técnicas de representantes da empresa, incluindo a alegação sobre a parcela de componentes nacionais e o prazo previsto para a produção.

A Langdao disse que participou a convite do Centro de Inovação Tecnológica de Xangai. Funcionários descreveram a apresentação como uma oportunidade de mostrar que uma equipe chinesa trabalhava na geração de luz EUV e de pedir paciência diante de um processo de desenvolvimento que levaria tempo.

A litografia funciona expondo a um padrão uma camada fotossensível aplicada sobre uma lâmina de silício. Etapas posteriores de fabricação transformam esse padrão em partes de um circuito eletrônico. A luz EUV tem comprimento de onda de cerca de 13,5 nanômetros, o que permite que equipamentos adequados imprimam padrões muito finos. Gerar essa luz é apenas o começo: a máquina também precisa direcioná-la com precisão e garantir uma exposição consistente.

As especificações divulgadas

O FlintNano LPP-OXXO da Langdao é o sistema de baixa potência cujas especificações foram descritas com mais detalhes. A empresa classifica a família FlintNano como estando em fase de desenvolvimento e comercialização do produto, enquanto sua família de maior potência, FlintMicro-LPP, já concluiu estudos de princípio e viabilidade.

As especificações atribuídas à Langdao incluem:

• Laser de acionamento com potência nominal de 1.000 watts, operando em frequências de 1 a 20 quilohertz.
• Eficiência de conversão acima de 2% e potência de saída EUV acima de 15 watts.
• Operação contínua por mais de 100 horas.
• Plasma com tamanho de 60 micrômetros.
• Estabilidade do plasma dentro de 3% RMS e estabilidade da potência de saída de 5%.

Watt mede potência, ou a rapidez com que a energia é fornecida. A potência nominal de 1.000 watts descreve a energia fornecida pelo laser de acionamento; a potência de saída EUV descreve a luz útil produzida pelo sistema. São etapas diferentes do processo. Quilohertz mede a frequência de repetição: 1 quilohertz corresponde a 1.000 ciclos por segundo.

A medida de estabilidade RMS resume as flutuações ao longo de um período de medição. Para um fabricante de chips, a questão prática é saber se cada exposição recebe uma quantidade de luz suficientemente consistente. Variações podem afetar a precisão com que o padrão do circuito é formado na camada aplicada à lâmina.

Como a luz é gerada

A Langdao está desenvolvendo a tecnologia de plasma produzido por laser, geralmente abreviada como LPP. Nesse método, um laser potente atinge minúsculas gotas de estanho, criando um plasma extremamente quente que emite luz EUV. O plasma é um estado da matéria no qual os átomos perderam alguns de seus elétrons. Um espelho coletor reúne parte da luz emitida e a direciona para o sistema de exposição.

As máquinas EUV comerciais da ASML também usam uma fonte LPP. O desafio de engenharia está em repetir o processo com precisão, coletar luz útil suficiente e proteger equipamentos sensíveis dos efeitos do plasma. Um fluxo estável de gotas de estanho, um laser de acionamento potente e um espelho coletor durável precisam funcionar em conjunto.

A atuação mais ampla da Langdao reflete essas necessidades. Além de fontes de luz EUV, a empresa afirma trabalhar com lasers de dióxido de carbono de alta potência e software de simulação de plasma. Os lasers fornecem o hardware de acionamento, enquanto o software ajuda os engenheiros a estudar o comportamento do plasma e ajustar as condições de operação.

Os esforços de pesquisa na China também incluem abordagens alternativas, como plasma de descarga induzida por laser e geração de luz baseada em aceleradores. Esses projetos têm seus próprios cronogramas de desenvolvimento. A estimativa pública da Langdao continua sendo de três a cinco anos para que sua fonte de luz chegue à produção em massa.

Por que mais potência e maior vida útil são importantes

Sistemas EUV comerciais exigem fontes de luz com potência na casa das centenas de watts, além de operação confiável durante processos intensivos de fabricação. A potência de saída acima de 15 watts divulgada pela Langdao coloca seu sistema de baixa potência em outra categoria de operação. Para chegar ao uso industrial, será necessário aumentar a quantidade de luz útil fornecida e manter a estabilidade do equipamento.

Uma quantidade maior de luz útil pode ajudar um sistema de litografia a expor lâminas mais rapidamente. Isso afeta quantas lâminas uma fábrica consegue processar e o custo de cada exposição. A confiabilidade é igualmente importante: uma interrupção em uma máquina pode atrasar a produção e reduzir o valor de uma fonte que, de outro modo, seria potente.

O espelho coletor representa um desafio específico porque opera perto de um plasma energético. O gerador de gotas de estanho também precisa fornecê-las no lugar certo e no momento certo. Pequenas mudanças em qualquer um desses processos podem afetar a luz que chega à lâmina.

O tempo de operação superior a 100 horas informado pela Langdao equivale a mais de quatro dias. Clientes industriais também precisariam de dados sobre intervalos de manutenção, substituição de componentes e desempenho em ciclos repetidos de operação. Funcionários da empresa associaram diretamente os desafios de engenharia restantes à potência de saída e à estabilidade.

O que significa a participação de 90% de componentes nacionais

Representantes da empresa disseram que 90% dos componentes do protótipo foram nacionalizados e que a maioria das peças principais foi desenvolvida internamente. Também relataram dificuldades para obter alguns componentes importados e afirmaram que as alternativas chinesas ainda apresentam uma diferença de estabilidade em certas áreas.

A Langdao não especificou se o índice de 90% foi calculado com base na quantidade de componentes, no valor ou em outro método. Para os leitores, a questão relevante é saber quais peças ainda são difíceis de substituir e como elas afetam a confiabilidade do sistema como um todo. Mesmo uma pequena parcela dos componentes pode incluir equipamentos essenciais para a operação contínua.

Funcionários se recusaram a identificar as peças importadas restantes. A explicação deles situou o desafio de engenharia em uma rede de fornecedores, e não apenas no trabalho de montagem de uma única empresa. Os melhores componentes nacionais precisariam ser fornecidos com qualidade consistente e vida útil confiável.

Para as fábricas chinesas de lâminas de silício, uma fonte local madura poderia, futuramente, reduzir a exposição às restrições sobre equipamentos e peças de reposição. O desafio atual é transformar projetos nacionais em componentes capazes de operar juntos de forma previsível por longos períodos.

Startup apoiada por investidores do setor de chips

A Langdao foi fundada em 2024. O fundador, Wang Hao, e sua equipe se apoiam em pesquisas do Laboratório de Descarga Gasosa e Plasma da Universidade Tsinghua, com foco na tecnologia LPP para fontes de litografia EUV.

O desenvolvimento da empresa foi acompanhado por várias rodadas de financiamento. Entre os investidores citados em relatos sobre as captações estão Woyan Capital e China Fortune-Tech Capital, ligada à Semiconductor Manufacturing International Corporation, a principal fabricante de chips por contrato da China. Esse apoio conecta a startup a investidores familiarizados com equipamentos e fabricação de semicondutores.

A sequência relatada vai da fundação ao financiamento e à apresentação pública:

• 2024: a Langdao foi fundada e iniciou seu projeto de fonte de luz EUV.
• Outubro de 2025: a Suiyue Ventures, associada à Zhangjiang Hi-Tech, fez um investimento-anjo.
• Janeiro de 2026: a empresa concluiu uma rodada adicional de investimento-anjo.
• Julho de 2026: a Langdao concluiu uma rodada de Série A.
• Outubro de 2026: o protótipo da fonte de luz foi apresentado ao público na feira industrial de Xangai.

O financiamento fornece recursos para equipamentos, contratação de pessoal e desenvolvimento adicional. O cronograma da própria Langdao ainda prevê vários anos de engenharia após a estreia pública, ilustrando a distância entre financiar um protótipo e fornecer um produto industrial reproduzível.

Controles de exportação mantêm a pressão pelo desenvolvimento nacional

A ASML é a única fornecedora comercial de sistemas completos de litografia EUV. As restrições impedem a venda desses sistemas à China, tornando uma alternativa nacional uma prioridade estratégica para os fabricantes chineses. A ASML fortaleceu sua capacidade de desenvolver fontes de luz com a aquisição da Cymer, em 2013, como parte do longo processo industrial por trás dos equipamentos atuais.

Fabricantes chineses de chips continuam usando equipamentos de ultravioleta profundo (DUV) na produção. O DUV utiliza comprimentos de onda maiores que o EUV. Os fabricantes podem recorrer à litografia de múltiplas exposições, que divide um padrão de circuito complexo em várias etapas de processamento, para ampliar o que essas máquinas conseguem produzir. Mais etapas aumentam a complexidade e o custo de fabricação.

O presidente-executivo da ASML, Christophe Fouquet, demonstrou ceticismo quanto à rapidez com que a China poderia alcançar a tecnologia da empresa. Em uma conversa com investidores, ele descreveu o caminho que ainda faltava ao país:

um caminho muito, muito longo

A estimativa de três a cinco anos da Langdao oferece uma medida mais específica para o próprio projeto. Contando a partir da apresentação relatada em outubro de 2026, isso aponta aproximadamente para o período entre 2029 e 2031, caso o desenvolvimento avance como previsto. O prazo é para a fonte de luz; uma máquina de litografia completa dependeria de que seus outros sistemas principais também atingissem níveis de desempenho compatíveis.

Avanços em outras áreas contextualizam o EUV

Fornecedores chineses também estão avançando em etapas da fabricação que não envolvem litografia. Na feira de semicondutores realizada em Shenzhen no mesmo período, a Hwatsing apresentou uma máquina de implantação iônica, a Leadmicro exibiu equipamentos para deposição de filmes finos e a Piotech anunciou uma tecnologia de deposição de filmes de carbono para chips de memória e lógica.

Esses avanços são importantes porque uma fábrica de lâminas depende de muitos tipos de equipamento. A implantação iônica altera as propriedades elétricas de áreas selecionadas do silício. A deposição adiciona camadas finas de material. A litografia define padrões que orientam as etapas seguintes. Avanços em todas essas etapas podem ampliar o uso de equipamentos nacionais, mesmo enquanto o desenvolvimento do EUV continua.

A Bernstein Research previu que fornecedores nacionais conquistariam 52% do mercado chinês de equipamentos para fabricação de lâminas até 2028, ante uma estimativa de 28% em 2026. Isso representa um aumento projetado de 24 pontos percentuais. A previsão abrange um mercado de equipamentos muito mais amplo que o de litografia EUV.

Os próximos avanços relevantes da Langdao devem envolver maior potência de saída, confiabilidade sustentada e desempenho de exposição durante o período de engenharia anunciado pela empresa. Usuários chineses da internet também questionaram se a publicidade em torno da apresentação busca captar recursos e estimular o entusiasmo patriótico. A divulgação de resultados operacionais detalhados daria a potenciais clientes e investidores informações mais concretas sobre o avanço do produto.

Principais pontos

• A Langdao Suiyan apresentou em Xangai um protótipo de fonte de luz EUV; funcionários da empresa afirmaram que 90% dos componentes são nacionais.
• A apresentação diz respeito a uma fonte de luz, um dos vários sistemas principais necessários em uma máquina completa de litografia EUV.
• As especificações divulgadas do FlintNano incluem potência de saída EUV acima de 15 watts e operação por mais de 100 horas.
• Funcionários estimaram que a produção em massa ainda levará de três a cinco anos; potência e confiabilidade são os principais desafios de engenharia.
• A empresa foi fundada em 2024 e atraiu investidores ligados ao setor de semicondutores da China.
• As restrições de exportação às máquinas EUV da ASML continuam impulsionando os esforços chineses para desenvolver equipamentos nacionais.